佳能发布半导体光刻机新品 FPA-5550iX，可用于全画幅 CMOS 造造

IT之家 3 月 13 日动静，佳能于今日出售了面向前道工序的半导体光刻机新产物 —— i 线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产物可以同时实现 0.5μm（微米）高解像力与 50×50mm 大视场曝光。

据介绍，新产物“FPA-5550iX”可以同时实现 50×50mm 大视场及 0.5μm 高解像力曝光，在不竭趋势高精尖化的全画幅 CMOS 传感器造造范畴中，使得单次曝光下的高解像力成像成为可能。

同时，通过充实操纵高解像力与大视场的优势，“FPA-5550iX”也可应用于头戴式显示器等小型显示设备造造的曝光工序中。

此外，跟着先辈的 XR 器件显示器需求增加，该产物也可普遍应用于大视场、高比照度的微型 OLED 显示器造造。

新产物“FPA-5550iX”不只可以应用于半导体器件造造，也能够在更先进的XR 器件显示器造造等更普遍的器件造造范畴阐扬其感化。

此外，“FPA-5550iX”的调准用示波器不只具备检测曲射光的“明场检测”功用，还新增了检测散射光和衍射光的“暗场检测”功用，用户可按照利用需求选择响应的检测办法。通过可选波长范畴的扩大、区域传感器的应用，加之可停止多像素丈量，最末实现更低噪点的检测效果，即便是低比照度的瞄准标识表记标帜，也能够停止检测。还能够应用于各类瞄准标识表记标帜的丈量，加强对用户多样造程的撑持才能。好比，做为选拆功用，用户能够选择装备可以穿透硅片的远红外线波长，以便在背照式传感器造造过程中对晶圆后背停止瞄准丈量。

IT之家注：调准用示波器是一种能够读取晶圆上的瞄准标识表记标帜并停止瞄准的显微镜。其原理是从瞄准光源将光照射到瞄准标识表记标帜上，透过镜头，在区域传感器上感光从而停止检测。