图形电镀工艺流程？蚀刻工艺基本知识？

图形电镀工艺流程？

图形电镀是一种将电镀材料在指定区域上沉积的工艺，通过控制电极的位置和形状，使电流只在需要电镀的区域通过，从而实现对金属表面的精确涂镀。图形电镀工艺一般包括以下几个步骤：

1. 去脏处理：将待电镀的金属表面清洗干净，去除表面的油污、氧化物等杂质，以保证电镀质量。

2. 印制光阻：在金属表面涂覆一层光阻胶，然后利用光刻技术在光阻层上制作出需要电镀的图形。具体方法是将光阻涂覆在金属表面上，然后在光阻层上覆盖一张透明的印刷膜，并将印刷膜上的图形透过光线照射到光阻层上，使光阻胶在光照区域发生化学变化，形成图形。

3. 蚀刻：将印制好的光阻图形在酸性溶液中进行蚀刻处理，使其形成需要电镀的图形。

4. 电镀：将蚀刻好的金属样品浸入电解槽中，利用电解原理，在需要电镀的图形区域施加电流，从而使电镀材料在该区域上沉积，形成所需电镀层。电镀的时间和电流强度需要严格控制，以保证电镀质量和均匀性。

5. 去光阻：在电镀完成后，将光阻层去除，露出电镀完成的图形。

6. 清洗：将电镀好的样品进行清洗和烘干处理，以去除残留的光阻胶和电解液等杂质，使电镀层表面光滑均匀。

总的来说，图形电镀工艺流程需要经过多个步骤，需要严格控制各个环节，以保证电镀质量和图形的精度。

蚀刻工艺基本知识？

蚀刻是一种通过化学或物理方式将材料表面的一部分刻蚀掉的加工工艺。在蚀刻过程中，利用液体或气体中的化学物质或物理作用来对被加工材料进行局部刻蚀，从而达到制造各种形状和结构的目的。蚀刻技术广泛应用于电路板、模具、芯片、微机电系统等领域。

以下是蚀刻工艺的一些基本知识：

1.蚀刻工艺分类：按照材料加工方式的不同，蚀刻工艺可以分为湿蚀刻和干蚀刻两种。湿蚀刻是指在液体溶液中进行的刻蚀，而干蚀刻则是在气体环境中进行的刻蚀。

2.蚀刻液：蚀刻液是蚀刻工艺中非常重要的一部分，不同的蚀刻液可以对不同材料进行刻蚀。常用的蚀刻液包括氢氟酸、硝酸、氯化铁等。

3.刻蚀机：蚀刻机是进行蚀刻工艺的主要设备。常见的蚀刻机包括湿蚀刻机、干蚀刻机、光刻机等。

4.蚀刻模板：蚀刻模板是蚀刻工艺中用来制造所需结构的模具。常见的蚀刻模板材料包括玻璃、金属、石英等。

5.蚀刻图形：蚀刻图形是蚀刻工艺中要制作的结构形状。蚀刻图形需要经过CAD设计和光刻等工序进行制作。

其基本原理是利用化学感光材料的光敏特性, 在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法, 将胶膜板上栅网产显形状精确地复制到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜, 将裸露的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除, 最终获取所需的几何形状及高精度尺寸的产品技术蚀刻技术